„Karštasis apdorojimas“ Apdorojamos medžiagos paviršiuje yra apšvitinamas didesnio energijos tankio lazerio pluoštas (tai yra koncentruotos energijos srautas). Medžiagos paviršius sugeria lazerio energiją ir sukuria šiluminio sužadinimo procesą apšviestoje vietoje, kad pakiltų medžiagos paviršiaus (arba dangos) temperatūra, sukeldama metamorfizmą, tirpimą, abliaciją, garavimą ir kitus reiškinius.
„Šaltojo apdorojimo“ (ultravioletiniai) fotonai, turintys didelę apkrovos energiją, gali suardyti cheminius ryšius medžiagose (ypač organinėse medžiagose) ar aplinkinėje terpėje, sukeldami medžiagų terminį procesą. Šis šaltasis apdirbimas turi ypatingą reikšmę apdorojant lazeriu, nes jis nėra šiluminis abliacija, o šaltasis lupimas, kuris sulaužo cheminius ryšius be pašalinio „šilumos sugadinimo“ efekto, todėl jis nedaro įtakos vidiniam sluoksniui ir netoliese esančioms perdirbtų vietų dalims. paviršius Sukuria šildymo ar šiluminę deformaciją. Pvz., Elektronikos pramonėje eksimeriniai lazeriai naudojami norint nusodinti ploną cheminės medžiagos plėvelę ant pagrindo medžiagos, kad puslaidininkiniame substrate susidarytų siauri grioveliai.
